代理专利文献:101667,涉及专利:73639件
覆盖主要的IPC大类包括:H01(15509)、G06(9694)、H04(6587)、G02(6321)、G01(3661)、G09(3229)、A61(3127)、H05(3112)、H02(2538)、B01(2393)
专利类型分布状况:发明公开(53132)、实用新型(15128)、外观设计(4499)、发明申请(878)、发明授权(2)
专利不同法律状态数据分布状况:有效专利(25668)、失效专利(23146)、无效专利(15095)、实质审查(8613)、公开(1117)
涉及到的主要客户:应用材料公司(6176)、乐金显示有限公司(6137)、中国石油天然气股份有限公司(5684)、友达光电股份有限公司(5320)、台湾积体电路制造股份有限公司(3189)、财团法人工业技术研究院(3153)、中国科学院计算技术研究所(2676)、英业达股份有限公司(2594)、株式会社LG新能源(1687)、大立光电股份有限公司(1415)
涉及到的主要发明人:毛映岚(178)、徐典宏(177)、张少桥(151)、黄歆璇(147)、蔡宗翰(136)、陈俭敏(115)、约瑟夫·M·拉内什(102)、朴宰用(98)、黄顺治(92)、徐业友(90)
发明专利授权成功率:53%
| 专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
|---|---|---|
| 发明授权 | 用于形成双酚、环氧树脂组成物的工艺 | CN120693314B |
| 发明授权 | 一种水田耕整机及其水田耕深检测装置和方法 | CN117906556B |
| 发明授权 | 半导体晶片及序列检查电路 | CN117637005B |
| 发明授权 | 显示设备 | CN116367656B |
| 发明授权 | 发光显示设备和包括该发光显示设备的多屏显示设备 | CN114512519B |
| 发明授权 | 发光显示面板和包括发光显示面板的发光显示设备 | CN114335076B |
| 发明公开 | 使用图案作为对准标记 | CN122996871A |
| 发明公开 | 用于基板表面颗粒去除的水基高效率化学试剂 | CN122996857A |
| 发明公开 | 用于形成保形氧化硅薄膜的方法 | CN122996850A |
| 发明授权 | 个人沉浸式显示装置 | CN118262630B |
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 应用材料公司 | 6176 |
| 2 | 乐金显示有限公司 | 6137 |
| 3 | 中国石油天然气股份有限公司 | 5684 |
| 4 | 友达光电股份有限公司 | 5320 |
| 5 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 3189 |
| 6 | 财团法人工业技术研究院 | 3153 |
| 7 | 中国科学院计算技术研究所 | 2676 |
| 8 | 英业达股份有限公司 | 2594 |
| 9 | 株式会社LG新能源 | 1687 |
| 10 | 大立光电股份有限公司 | 1415 |
| 排名 | 发明人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 毛映岚 | 178 |
| 2 | 徐典宏 | 177 |
| 3 | 张少桥 | 151 |
| 4 | 黄歆璇 | 147 |
| 5 | 蔡宗翰 | 136 |
| 6 | 陈俭敏 | 115 |
| 7 | 约瑟夫·M·拉内什 | 102 |
| 8 | 朴宰用 | 98 |
| 9 | 黄顺治 | 92 |
| 10 | 徐业友 | 90 |
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