ASML荷兰有限公司
该申请人涉及专利文献：5683，涉及专利：3698件
覆盖主要的IPC大类包括：G03(2941)、H01(1073)、G01(361)、G02(273)、H05(244)、G06(232)、G21(66)、G05(54)、H02(40)、F16(40)
专利类型分布状况：发明公开(3697)、实用新型(1)
专利不同法律状态数据分布状况：有效专利(1368)、实质审查(1324)、失效专利(625)、无效专利(228)、公开(153)
该领域主要的发明人有：H·巴特勒(60)、W·T·特尔(46)、任伟明(43)、A·J·登博夫(38)、王勇新(37)、M·J-J·维兰德(33)、J·洛夫(30)、方伟(30)、A·J·布里克(29)、N·潘迪(26)
详细地址：荷兰 荷兰维德霍温
相关专利文献 (5683件)
| 专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
|---|---|---|
| 发明公开 | 静电透镜设计 | CN122619674A |
| 发明授权 | 用于控制制造工艺的方法和相关联的装置 | CN116157744B |
| 发明公开 | 确定操作数据的方法、计算机程序和光刻设备 | CN122603310A |
| 发明授权 | 使用多个带电粒子射束的装置 | CN116313708B |
| 发明授权 | 用于源掩模优化和目标优化的图案选择 | CN115616870B |
| 发明公开 | 用于光刻设备的直接致动的图案形成装置 | CN122580614A |
| 发明授权 | 用于减少抗蚀剂模型预测误差的系统和方法 | CN116125756B |
| 发明公开 | 带电粒子系统中使用电压对比进行缺陷检查的系统和方法 | CN122525331A |
| 发明授权 | 用于电压对比缺陷检测的系统和方法 | CN115151997B |
| 发明公开 | 用于具有降低的相干和散斑对比度的套刻量测的系统和方法 | CN122459745A |
近10年该领域专利申请趋势
专利分类情况
IPC分类
核心专利文献
相关企业
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | ASML荷兰有限公司 | 5683 |
相关发明人
| 排名 | 发明人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | H·巴特勒 | 60 |
| 2 | W·T·特尔 | 46 |
| 3 | 任伟明 | 43 |
| 4 | A·J·登博夫 | 38 |
| 5 | 王勇新 | 37 |
| 6 | M·J-J·维兰德 | 33 |
| 7 | J·洛夫 | 30 |
| 8 | 方伟 | 30 |
| 9 | A·J·布里克 | 29 |
| 10 | N·潘迪 | 26 |
相关代理机构
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 3407 |
| 2 | 北京市金杜律师事务所 | 1808 |
| 3 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 465 |
| 4 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 3 |
相关代理人
| 排名 | 代理人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 王波波 | 755 |
| 2 | 张启程 | 589 |
| 3 | 王茂华 | 508 |
| 4 | 王益 | 465 |
| 5 | 胡良均 | 447 |
| 6 | 郑振 | 346 |
| 7 | 吴敬莲 | 334 |
| 8 | 张宁 | 283 |
| 9 | 王静 | 249 |
| 10 | 赵林琳 | 249 |
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