该申请人涉及专利文献:10358,涉及专利:7086件
覆盖主要的IPC大类包括:H01(4835)、C23(1759)、H10(409)、B24(328)、G03(265)、G01(265)、H05(246)、G06(199)、G02(196)、C30(110)
专利类型分布状况:发明公开(6601)、实用新型(329)、外观设计(156)
专利不同法律状态数据分布状况:有效专利(2633)、实质审查(2371)、无效专利(1148)、失效专利(852)、公开(82)
该领域主要的发明人有:约瑟夫·M·拉内什(95)、J·Y·孙(68)、V·D·帕科(53)、斯蒂芬·莫法特(51)、D·卢博米尔斯基(47)、J·约德伏斯基(47)、刘树坤(38)、克里斯蒂安·沃尔夫冈·埃曼(36)、斯蒂芬·班格特(31)、R·巴贾杰(26)
详细地址:美国 美国加利福尼亚州
| 专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
|---|---|---|
| 发明公开 | 基板载具 | CN122623463A |
| 发明公开 | 动态随机存取存储器(DRAM)装置中的位线表面处理和封装 | CN122623446A |
| 发明授权 | 用于在抛光或清洁工艺中使用的垫载体 | CN116619238B |
| 发明授权 | 用于氮化钛膜的处理方法 | CN116057672B |
| 发明授权 | 基板边缘清洁和基板承载头间隙清洁的设备和方法 | CN114434320B |
| 发明公开 | 用于基板支撑件的冷却基部 | CN122603602A |
| 发明公开 | 无线特性测量 | CN122603403A |
| 发明公开 | 用于寄生级次削弱的非对称光栅 | CN122603298A |
| 发明授权 | 原位全晶片计量系统 | CN113394125B |
| 发明公开 | 使用硅基腔室预涂层降低ICP工艺腔室中光刻胶和碳蚀刻速率的方法 | CN122581018A |
| 排名 | 发明人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 约瑟夫·M·拉内什 | 95 |
| 2 | J·Y·孙 | 68 |
| 3 | V·D·帕科 | 53 |
| 4 | 斯蒂芬·莫法特 | 51 |
| 5 | D·卢博米尔斯基 | 47 |
| 6 | J·约德伏斯基 | 47 |
| 7 | 刘树坤 | 38 |
| 8 | 克里斯蒂安·沃尔夫冈·埃曼 | 36 |
| 9 | 斯蒂芬·班格特 | 31 |
| 10 | R·巴贾杰 | 26 |
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 6050 |
| 2 | 上海专利商标事务所有限公司 | 3632 |
| 3 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 638 |
| 4 | 北京东方亿思专利代理有限责任公司 | 19 |
| 5 | 北京连和连知识产权代理有限公司 | 10 |
| 6 | 北京市柳沈律师事务所 | 4 |
| 7 | 永新专利商标代理有限公司 | 3 |
| 8 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 1 |
| 9 | 北京市君合律师事务所 | 1 |
| 排名 | 代理人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 徐金国 | 6036 |
| 2 | 赵静 | 4050 |
| 3 | 侯颖媖 | 2541 |
| 4 | 吴启超 | 1493 |
| 5 | 张鑫 | 723 |
| 6 | 汪骏飞 | 480 |
| 7 | 黄嵩泉 | 393 |
| 8 | 赵飞 | 311 |
| 9 | 陆嘉 | 260 |
| 10 | 杨学春 | 241 |
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