ASML荷兰有限公司
该申请人涉及专利文献：5609，涉及专利：3643件
覆盖主要的IPC大类包括：G03(2917)、H01(1050)、G01(353)、G02(269)、H05(240)、G06(229)、G21(65)、G05(54)、F16(40)、H02(39)
专利类型分布状况：发明公开(3642)、实用新型(1)
专利不同法律状态数据分布状况：有效专利(1373)、实质审查(1286)、失效专利(601)、无效专利(227)、公开(156)
该领域主要的发明人有：H·巴特勒(60)、W·T·特尔(46)、任伟明(40)、A·J·登博夫(38)、王勇新(37)、J·洛夫(30)、A·J·布里克(29)、M·J-J·维兰德(29)、方伟(29)、N·潘迪(26)
详细地址：荷兰 荷兰维德霍温
相关专利文献 (5609件)
| 专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
|---|---|---|
| 发明公开 | 基于激光驱动等离子体的EUV产生系统 | CN122319732A |
| 发明公开 | 辐射传感器 | CN122319399A |
| 发明公开 | 信号处理方法、信号处理器、评估方法及评估装置 | CN122319380A |
| 发明公开 | 流体处理结构 | CN122295624A |
| 发明授权 | 使用增强偏转器操纵带电粒子束的装置 | CN115485804B |
| 发明公开 | 确定曝光过程的校正的方法、光刻设备和计算机程序 | CN122270727A |
| 发明公开 | 光刻设备的EUV源的激光器的控制 | CN122270726A |
| 发明公开 | 光刻设备的设置的方法 | CN122270724A |
| 发明授权 | 用于对在衬底区域上的测量数据进行建模的方法和相关联的装置 | CN115997172B |
| 发明公开 | 洗涤器系统、包括该洗涤器系统的EUV辐射源和包含该EUV辐射源的EUV利用系统以及去除污染物的方法 | CN122250175A |
近10年该领域专利申请趋势
专利分类情况
IPC分类
核心专利文献
相关企业
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | ASML荷兰有限公司 | 5609 |
相关发明人
| 排名 | 发明人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | H·巴特勒 | 60 |
| 2 | W·T·特尔 | 46 |
| 3 | 任伟明 | 40 |
| 4 | A·J·登博夫 | 38 |
| 5 | 王勇新 | 37 |
| 6 | J·洛夫 | 30 |
| 7 | A·J·布里克 | 29 |
| 8 | M·J-J·维兰德 | 29 |
| 9 | 方伟 | 29 |
| 10 | N·潘迪 | 26 |
相关代理机构
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 3387 |
| 2 | 北京市金杜律师事务所 | 1754 |
| 3 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 465 |
| 4 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 3 |
相关代理人
| 排名 | 代理人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 王波波 | 755 |
| 2 | 张启程 | 588 |
| 3 | 王茂华 | 508 |
| 4 | 王益 | 460 |
| 5 | 胡良均 | 441 |
| 6 | 吴敬莲 | 334 |
| 7 | 郑振 | 304 |
| 8 | 张宁 | 276 |
| 9 | 王静 | 249 |
| 10 | 赵林琳 | 244 |
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