该申请人涉及专利文献:5504,涉及专利:3575件
覆盖主要的IPC大类包括:G03(2879)、H01(1034)、G01(344)、G02(261)、H05(236)、G06(229)、G21(65)、G05(53)、F16(40)、H02(37)
专利类型分布状况:发明公开(3574)、实用新型(1)
专利不同法律状态数据分布状况:有效专利(1355)、实质审查(1259)、失效专利(582)、无效专利(219)、公开(160)
该领域主要的发明人有:H·巴特勒(60)、W·T·特尔(46)、任伟明(40)、A·J·登博夫(38)、王勇新(33)、J·洛夫(30)、A·J·布里克(29)、M·J-J·维兰德(26)、N·潘迪(26)、方伟(26)
详细地址:荷兰 荷兰维德霍温
| 专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
|---|---|---|
| 发明公开 | 预测万亿分之一故障率的方法 | CN121889729A |
| 发明公开 | 用于掩模预测的半监督模型、自监督模型以及强化学习机器学习模型 | CN121889723A |
| 发明公开 | 掩蔽模块 | CN121866510A |
| 发明公开 | 隔膜监测设备和方法以及光刻设备 | CN121844253A |
| 发明公开 | 确定用于光刻相关图案的圆化轮廓 | CN121832193A |
| 发明公开 | 用于多带电粒子束系统中的束对准的系统和方法 | CN121794787A |
| 发明公开 | 用于经由源掩模优化减少随机故障的方法 | CN121794628A |
| 发明公开 | 用于磁悬浮载物台的系统和方法 | CN121794627A |
| 发明公开 | 具有嵌齿补偿的线性马达 | CN121794625A |
| 发明公开 | 掩模版处理系统 | CN121773378A |
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | ASML荷兰有限公司 | 5504 |
| 排名 | 发明人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | H·巴特勒 | 60 |
| 2 | W·T·特尔 | 46 |
| 3 | 任伟明 | 40 |
| 4 | A·J·登博夫 | 38 |
| 5 | 王勇新 | 33 |
| 6 | J·洛夫 | 30 |
| 7 | A·J·布里克 | 29 |
| 8 | M·J-J·维兰德 | 26 |
| 9 | N·潘迪 | 26 |
| 10 | 方伟 | 26 |
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 3350 |
| 2 | 北京市金杜律师事务所 | 1686 |
| 3 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 465 |
| 4 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 3 |
| 排名 | 代理人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 王波波 | 755 |
| 2 | 张启程 | 586 |
| 3 | 王茂华 | 507 |
| 4 | 王益 | 448 |
| 5 | 胡良均 | 428 |
| 6 | 吴敬莲 | 334 |
| 7 | 郑振 | 262 |
| 8 | 张宁 | 261 |
| 9 | 王静 | 249 |
| 10 | 王新华 | 239 |
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